走査型電子顕微鏡・SEM
（日立 S-4100、S-4500、S-5200）
走査型電子顕微鏡は、試料の表面構造の観察や組成分析を行うために用いられる装置です。観察対象となる材料や観察・分析の目的などに応じて、各種の走査型電子顕微鏡が設置されており、多くの研究室が利用しています。
【特徴】
細く絞った電子線を試料表面に照射し、照射領域から発生する二次電子の信号強度を高感度で測定します。電子線を走査し、二次電子の強度変化をマッピングすることで試料表面の凹凸を高分解能で観察できます。電子線照射によって発生するX線を分析し、また反射電子を検 出することによって元素組成や分布も調べることができます。S-5200では試料を対物レンズ内に設置するインレンズ方式によって超高分解能が得られます。到達最高分解能は電子線の加速電圧が30kVで0.5nm、1kVで1.8nmです。
【仕様】
| 電子銃 | 冷陰極電界放出形 加速電圧：0.5 - 30 kV (常用20kV) |
|---|---|
| 分解能(S-4100) | 1.5 nm (30kV, WD=5mm) |
| 分解能(S-4500) | 1.5 nm (15kV, WD=4mm), 4.0 nm (1kV, WD=3mm) |
| 倍率(S-4100) | 20 - 300,000倍 |
| 倍率(S-4500) | 50 - 500,000倍 (Zoomモード) 20 - 1,500倍 (Low magモード) |
| 試料傾斜 | 45° |
| 加速電圧 | 0.5 - 30 kV (常用10kV) |
|---|---|
| 電子銃 | 冷陰極電界放出形 |
| 分解能 | 0.5 nm (30kV, Sample Height=0.5mm) 1.8 nm (1kV, Sample Height=1.5mm) |
| 倍率 | 800 - 2,000,000倍（Zoomモード） 60 - 10,000倍（Low magモード） |
| 試料傾斜 | ±40° |
【設置場所】
ナノマテリアルテクノロジーセンター２階