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設備・装置一覧

機器情報更新日：2022年4月1日

※赤の下線を付した設備は、「データ創出設備」です。

※利用状況は、測定開始までの目安の
待機期間を表示しています。

◎：２週間以内　
○：２週間以降　
△：1ケ月以降　
×：未定

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核磁気共鳴装置(NMR)

核磁気共鳴スペクトル測定装置 800MHz

核磁気共鳴スペクトル測定装置800MHz

Bruker BioSpin・AVANCE III 800

利用状況：× 故障中

核磁気共鳴スペクトル測定装置 800MHz
装置ID JI-001
製造メーカ名・型番 Bruker BioSpin・AVANCE III 800
利用状況 × 故障中
詳細
  • 分光計：AVANCE III（4-channel 仕様）
  • 磁場強度：18.79テスラ
  • 1H共鳴周波数：800MHz
  • 検出器：TCI-triple resonance cryogenic probe（液体試料用）
  • 観測可能核：1H、13C、15N、2H
  • 感度： S/N for 1H > 7,600
  • 温度可変装置付
  • 液体窒素再凝縮装置付
担当者

教授
大木　進野

技術専門職員
宮里　朗夫

技術職員
闞　凱
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核磁気共鳴スペクトル測定装置 500MHz

核磁気共鳴スペクトル測定装置500MHz

Bruker BioSpin・AVANCE III 500

利用状況：〇 2週間以降

核磁気共鳴スペクトル測定装置 500MHz
装置ID JI-002
製造メーカ名・型番 Bruker BioSpin・AVANCE III 500
利用状況 〇 2週間以降
詳細
  • 分光計：AVANCE III（固体・溶液兼用）
  • 磁場強度：11.7テスラ
  • 1H共鳴周波数：500MHｚ
  • 5mm径 多核種用プローブ（液体試料用）
  • CPMASプローブ（固体試料用）
  • 液体窒素再凝縮装置付
担当者

教授
後藤　和馬

技術専門職員
宮里　朗夫

技術職員
闞　凱

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核磁気共鳴スペクトル測定装置 400MHz

核磁気共鳴スペクトル測定装置400MHz

Bruker BioSpin・Avance NEO 400

利用状況：◎ ２週間以内

核磁気共鳴スペクトル測定装置 400MHz
装置ID JI-003
製造メーカ名・型番 Bruker BioSpin・Avance NEO 400
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 分光計：AVANCE NEO（溶液用
  • 磁場強度：9.4テスラ
  • 5mm径　多核種用プローブ（液体試料用）
  • 液体窒素再凝縮装置付
担当者

教授
大木　進野

技術専門職員
宮里　朗夫

技術職員
闞　凱

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質量分析装置

フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析計（FT-ICR MS）

フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析計（FT-ICR MS）

Bruker Daltonics・scimaX

利用状況：△ 1ケ月以降

フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析計（FT-ICR MS）
装置ID JI-019
製造メーカ名・型番 Bruker Daltonics・scimaX
利用状況 △ 1ケ月以降
詳細
  • 磁場強度：7 T
  • 最大分解能：2000万以上
  • 観測質量範囲：通常の設定では m/z 50 - 10000
  • 試料の量：pmol - fmol order
  • イオン化モード：Positive、Negative
  • イオン源：ESI、MALDI、APPI、APCI
  • MS/MS方式：CID、ETD、ECD
  • MALDIイメージング分析対応可
  • TMスプレイヤー利用可
  • SCiLS Labイメージングソフトウェア利用可
  • MALDIイメージングサンプル作製用ミクロトーム利用可
担当者

准教授
山口　拓実

技術専門職員
宮里　朗夫

技術職員
闞　凱

研究員
四十万谷　智子
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マトリックス支援レーザー脱離イオン化タンデム飛行時間型質量分析計（MALDI-TOF/TOF MS）

マトリックス支援レーザー脱離イオン化タンデム飛行時間型質量分析計（MALDI-TOF/TOF MS）

Bruker Daltonics・ultrafleXtreme

利用状況：△ 1ケ月以降

マトリックス支援レーザー脱離イオン化タンデム飛行時間型質量分析計（MALDI-TOF/TOF MS）
装置ID JI-005
製造メーカ名・型番 Bruker Daltonics・ultrafleXtreme
利用状況 △ 1ケ月以降
詳細
  • 分解能：最大約 40,000
  • 観測質量範囲：m/z 20 - 50万
  • 試料の量：pmol - fmol order
  • イオン化モード：Positive、Negative
  • イオン源：MALDI
  • MS/MS方式：CID
担当者

技術専門職員
宮里　朗夫

技術職員
闞　凱
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ガスクロマトグラフ質量分析計（GC-MS）

ガスクロマトグラフ質量分析計（GC-MS）

日本電子（JEOL）・AccuTOF GCX

利用状況：◎ ２週間以内

ガスクロマトグラフ質量分析計（GC-MS）
装置ID JI-006
製造メーカ名・型番 日本電子（JEOL）・AccuTOF GCX
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 気化室温度：350℃
  • 観測質量範囲：m/z 50 -800
  • イオン化モード：Positive、Negative
  • イオン源：EI、CI
  • 熱分解装置使用可
担当者 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

技術専門職員
宮里　朗夫

研究員
四十万谷　智子
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液体クロマトグラフ質量分析計（LC-MS）

液体クロマトグラフ質量分析計（LC-MS）

Waters・ACQUITY UPLC H-Class およびM-Class（ナノLC）、 SYNAPT XS

利用状況：△ 1ケ月以降

液体クロマトグラフ質量分析計（LC-MS）
装置ID JI-007
製造メーカ名・型番 Waters・ACQUITY UPLC H-Class およびM-Class（ナノLC）、SYNAPT XS
利用状況 △ 1ケ月以降
詳細
  • 分解能：最大約 75000
  • 観測質量範囲：m/z 50 - 64000
  • イオン化モード：Positive、Negative
  • イオン源：ESI、APCI、ナノESI
  • MS/MS方式：CID
  • イオンモビリティー分析可
  • Progenesis QI for Proteomicsソフトウェア利用可
担当者

准教授
山口　拓実

技術専門職員
宮里　朗夫

研究員
四十万谷　智子

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透過型電子顕微鏡

原子分解能走査透過型電子顕微鏡（STEM）

原子分解能走査透過型電子顕微鏡（STEM）

日本電子（JEOL）・JEM-ARM200F

利用状況：△ 1ケ月以降

原子分解能走査透過型電子顕微鏡（STEM）
装置ID JI-008
製造メーカ名・型番 日本電子（JEOL）・JEM-ARM200F
利用状況 △ 1ケ月以降
詳細
  • 加速電圧：200 kV
  • 電子銃 ショットキー型電界放出銃
  • 分解能：
  • 0.08 nm（走査透過像）
  • 0.19 nm（透過顕微鏡 粒子像）
  • 0.10 nm（透過顕微鏡 格子像）
  • EDS、EELSによる組成分析機能付
  • 照射系収差補正装置：組み込み
  • UHR仕様
担当者

教授
大島　義文

助教
麻生　浩平

技術専門員
東嶺　孝一

研究員
小林　祥子
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透過電子顕微鏡（TEM）

透過型電子顕微鏡（TEM）

日本電子（JEOL）・JEM-2100Plus

利用状況：△ 1ケ月以降

透過電子顕微鏡（TEM）
装置ID JI-009
製造メーカ名・型番 日本電子（JEOL）・JEM-2100Plus
利用状況 △ 1ケ月以降
詳細
  • 【半遠隔利用可】
  • 加速電圧：60、100、120、200kV
  • EDSによる組成分析機能付
  • UHR仕様
担当者

技術専門員
東嶺　孝一
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多機能顕微鏡

低加速走査電子顕微鏡（FE-SEM）

低加速走査電子顕微鏡(FE-SEM)

日立ハイテク（Hitachi High-Tech）・Regulus8230

利用状況：◎ ２週間以内

低加速走査電子顕微鏡（FE-SEM）
装置ID JI-010
製造メーカ名・型番 日立ハイテク（Hitachi High-Tech）・Regulus8230
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 【遠隔利用可】
  • 加速電圧：0.5-30kV（照射電圧0.01-20kV）
  • 分解能：0.6nm at 15kV
  • EDX、EBSD、PD-BSE、EBIC
担当者

准教授
赤堀　誠志

技術専門員
能登屋　治
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走査型オージェ電子分光顕微鏡（SAM）

走査型オージェ電子分光顕微鏡（SAM）

アルバック・ファイ（ULVAC-PHI）・SAM670Xi

利用状況：◎ ２週間以内

走査型オージェ電子分光顕微鏡（SAM）
装置ID JI-011
製造メーカ名・型番 アルバック・ファイ（ULVAC-PHI）・SAM670Xi
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 元素分析：原子番号3以上
  • 最大加速電圧：25kV
  • 走査電子ビーム径：15nm以下（加速電圧20kV、電流１nA）
  • エネルギー分析：0－3200 eV
  • 超高真空
担当者

准教授
安　東秀

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大気中原子間力顕微鏡（AFM）

大気中原子間力顕微鏡（AFM）

日立ハイテクサイエンス（Hitachi High-Tech Science）・AFM5000II SPA-400

利用状況：◎ ２週間以内

大気中原子間力顕微鏡（AFM）
装置ID JI-012
製造メーカ名・型番 日立ハイテクサイエンス（Hitachi High-Tech Science）・AFM5000II SPA-400
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 測定方式：光てこ方式
  • 試料サイズ：最大直径35mmφ 最大厚み10mm
  • 分解能：0.6nm at 15kV走査範囲：20μm
担当者

技術専門職員
伊藤　暢晃

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分光装置

X線光電子分光装置（XPS）

Ｘ線光電子分光装置（XPS）

島津クレートス（Shimadzu/Kratos）・AXIS- ULTRA DLD

利用状況：△ 1ケ月以降

X線光電子分光装置（XPS）
装置ID JI-013
製造メーカ名・型番 島津クレートス（Shimadzu/Kratos）・AXIS- ULTRA DLD
利用状況 △ 1ケ月以降
詳細
  • 測定可能元素：Li～U
  • X線源：Mg/Al 特性X線、AlKαモノクロメータX線
  • 紫外光源：He放電管
  • 最小プローブ ：40μmφ
  • 分析深さ：数nm
  • 最大試料サイズ：100mm（X）×25mm（Y）×10mm（Z）
  • イメージング：空間分解能 3μm以下 元素像および化学状態像
  • 深さ分析：可能
  • エッチングイオン銃使用
  • 傾斜分析：可能： 0～90°
  • 紫外光分光分析（UPS)：可能
担当者

教授
鈴木　寿一

技術専門職員
村上　達也
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大気中光電子分光装置（PYS）

大気中光電子分光装置（PYS）

理研計器（RIKEN KEIKI）・AC-2

利用状況：◎ ２週間以内

大気中光電子分光装置（PYS）
装置ID JI-014
製造メーカ名・型番 理研計器（RIKEN KEIKI）・AC-2
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 大気中試料のイオン化エネルギー測定：可能
  • 検知範囲：3.4-6.2eV
担当者

教授
村田　英幸

助教
江口　敬太郎

技術専門職員
村上　達也

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正・逆光電子分光装置（PYS+IPES）

正・逆光電子分光装置（PYS+IPES）

テックサイエンス（TECH SCIENCE）・PYS-200+IPES

利用状況：× 故障中

正・逆光電子分光装置（PYS+IPES）
装置ID JI-015
製造メーカ名・型番 テックサイエンス（TECH SCIENCE）・PYS-200+IPES
利用状況 × 故障中
詳細
  • PYS-200
  • 測定エネルギー：4-9 eV
  • 分解能：20 meV
  • 測定領域：2 mmφ
  • IPES
  • 測定エネルギー：5-50 eV
  • 分解能：0.3 eV
  • 測定領域：1 mmφ
  • 大気非曝露試料搬送
    • 露点管理された専用グローブボックス内N2雰囲気下にてシャトルチャンバー内基板ホルダーに試料をセットし、 シャトルチャンバーを分光装置に連結、排気することで試料の大気非曝露搬送が可能。
担当者

教授
村田　英幸

助教
江口　敬太郎

技術専門職員
村上　達也

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GFIS搭載微細加工機

電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置（GFIS-FIB）

電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置（GFIS-FIB）

日立ハイテクサイエンス（Hitachi High-Tech Science）・MR-GFIS

利用状況：× 調整中

電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置（GFIS-FIB）
装置ID JI-016
製造メーカ名・型番 日立ハイテクサイエンス（Hitachi High-Tech Science）・MR-GFIS
利用状況 × 調整中
詳細
  • N2イオンビームによる低汚染のFIB加工
  • 最少加工幅：約10nm
担当者

准教授
赤堀　誠志

技術専門員
宇野　宗則
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クリーンルーム微細加工装置群

クリーンルーム微細加工装置群（CLEAN ROOM FACILITIES）

クリーンルーム微細加工装置群（CLEAN ROOM FACILITIES）

利用状況：◎ ２週間以内

クリーンルーム微細加工装置群（CLEAN ROOM FACILITIES）
装置ID JI-017
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • EBL（30kV、50kV）、マスクレス露光機（405nm、375nm）、
    抵抗加熱蒸着、EB蒸着、RFスパッタ、ECRスパッタ、ALD、MBE、
    RIE、イオン注入、赤外ランプアニールなど
担当者

准教授
赤堀　誠志

技術専門職員
村上　達也
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工作室加工成形装置群

工作室加工成形装置群（MACHINE SHOP）

工作室加工成形装置群（MACHINE SHOP）

利用状況：◎ ２週間以内

工作室加工成形装置群（MACHINE SHOP）
装置ID JI-018
利用状況 ◎ ２週間以内
詳細
  • 各種工作機械（主なものは下記）
  • マシニングセンター
  • ワイヤー放電加工機
  • 旋盤
  • レーザー加工機
  • 3Dプリンタ
  • その他
担当者

技術専門員
宇野　宗則
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