主要設備一覧
透過型電子顕微鏡・TEM
（日立 H-7100、H-7650、H-9000NAR）
H-7100、H-7650
透過電子顕微鏡は、波長が約0.002 nm - 0.004 nmの電子線を用いて、材料の微細な構造の観察や分析を行うために用いられる装置です。JAISTの透過電子顕微鏡は、これからの材料の研究開発において、無くてはならない基盤的教育研究設備として位置づけられ、ナノマテリアルテクノロジーセンターで集中管理されています。観察対象となる材料や観察・分析の目的などに応じて、各種の透過電子顕微鏡が設置されており、多くの研究室が利用しています。
【特徴】
加速電圧100kVクラスの透過電子顕微鏡で、有機高分子材料、有機ー無機複合材料等の観察に用いられます。搭載されているデジタルＣＣＤカメラによって、高いコントラストで観察することができ、すぐに電子データとして像を得ることができます。H-7650は、パソコン上で制御することができ、操作性が向上しています。また、エネルギー分散型Ｘ線分光装置が装備されており、Ｘ線マッピングによって元素分析を行うことができます。さらに、電子線トモグラフィーによって、試料の立体構造解析を行うことも可能です。
【仕様】
| 加速電圧 | 120 kV |
|---|---|
| 電子銃 | Wフィラメント 分解能(H-7650)：0.2nm(格子像)、0.36nm（粒子像） 分解能(H-7100)：0.204nm(格子像)、0.45nm（粒子像） |
| 倍率(H-7650) | 200 - 600,000倍（Zoomモード） 50 - 1,000倍（Low magモード） |
| 倍率(H-7100) | 1,000 - 600,000倍（Zoomモード） 50 - 1,000倍（Low magモード） 5,000 - 300,000倍（SAモード） |
| 試料傾斜 | ±60° |
【設置場所】
ナノマテリアルテクノロジーセンター2階
H-9000NAR
半導体から各種材料に至るまで微細化技術が進歩している現在、サブナノスケールの高分解能観察が不可欠となっています。H-9000NARは、これらのニーズに応えるための高分解能観察が可能です。
【特徴】
半導体から各種材料に至るまで微細化技術が進歩している現在、サブナノスケールの高分解能観察が不可欠となっています。H-9000NARは、これらのニーズに応えるための高分解能観察が可能です。
【仕様】
| 加速電圧 | 300 kV |
|---|---|
| 電子銃 | LaB6エミッター（直流加熱） |
| 分解能 | 0.18 nm |
| 倍率 | 1,000 - 1,500,000倍（Zoomモード） 200 - 500倍（Low magモード） 4,000 - 500,000倍（SAモード） |
| 試料傾斜 | ±15° 最小プローブ径：0.8 nm 電子回折カメラ長：250-3,000 mm |
【設置場所】
ナノマテリアルテクノロジーセンター1階
